Oxford Instruments Plasma Technologyのストラテジック・ビジネス・ディベロップメント・ディレクターであるKlaas Wisniewski氏は次のように述べています。「この度の検証結果は費用対効果の高さを証明しました。持続可能なSiC基板製作技術を開発する我々の目標達成に向けて、重要なマイルストーンになったと言えるでしょう。また、当社のプラズマ前処理技術のポテンシャルは高く、従来技術と比較しても遜色なく、基板生産量を飛躍的に向上させます。今後、高成長市場であるSiC基板の需要増加にも対応できる可能性を持っています。」
Oxford Instruments plc. Plasma Technology は2022年9月11日から16日にダボス(スイス)で開催される国際会議ICSCRM/ECSCRMで、PPDFプロセスを公式に発表いたします。会議のテクニカル折衝では、商業向けファウンドリパートナーが製造してウェハから、特許取得のPPDFプロセスを活用した最新のエピタキシャルウェハ、デバイスの事例を発表いたします。また、工場へのPPDE導入も会場でご相談も承っております。
本プレスリリースは、イギリス時間8月29日に発表した『SiC Plasma Epi Prep Alternative to CMP is Validated: Oxford Instruments Complete Feasibility Study at Tier 1 SiC Semi Fab』の抄訳です。
Oxford Instruments plc. Plasma Technology は2022年9月11日から16日にダボス(スイス)で開催される国際会議ICSCRM/ECSCRMで、PPDFプロセスを公式に発表いたします。会議のテクニカル折衝では、商業向けファウンドリパートナーが製造してウェハから、特許取得のPPDFプロセスを活用した最新のエピタキシャルウェハ、デバイスの事例を発表いたします。また、工場へのPPDE導入も会場でご相談も承っております。
本プレスリリースは、イギリス時間8月29日に発表した『SiC Plasma Epi Prep Alternative to CMP is Validated: Oxford Instruments Complete Feasibility Study at Tier 1 SiC Semi Fab』の抄訳です。