株式会社パテント・リザルトは2015年5月14日、日本に出願されたスパッタリング装置関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。
スパッタリングは薄膜製造技術の一つとして半導体やディスプレイ等の製造プロセスに用いられています。本調査ではスパッタリング装置関連技術の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。
その結果、「総合力ランキング」では、1位キヤノンアネルバ、2位 APPLIED MATERIALS、3位アルバックとなりました。
総合力1位のキャノンアネルバは磁性膜成膜用のマグネトロンスパッタ装置の構成に関して注目度の高い特許が多くなっています。2位のAPPLIED MATERIALSはプラズマ発生用コイルや電極シュラウドといった個々の部品に関する特許、3位のアルバックは大面積用途のスパッタリング装置に関して注目度の高い特許が多くなっています。半導体製造装置におけるスパッタリング装置の市場シェアはAPPLIED MATERIALSが圧倒的に高く、ディスプレイ用ではアルバックが、HDD等の磁性薄膜用ではキヤノンアネルバが高いシェアを有しています。こうした各社の特徴、強みはパテントスコアによる特許の評価においても表れています。
総合力上位3社は上述したようにそれぞれの特徴がありますが、直近で競合する企業がどこなのかを調査する目的で特許の引用情報を集計しました。これら3社が審査を受ける際にどのような企業の特許が先行技術として引用されて権利化の障害となったのか（3社から見た先行企業）、3社の特許が先行技術として引用されてどのような企業の権利化に障害となったのか（3社から見た追随企業）を2010年以降の審査官引用に絞り集計しました。各社の先行企業（引用数ランキング）を見ると、3社それぞれが互いに競合している状態となっていますが、その他は共通してかつて半導体製造を直接手掛けていたパナソニック、日立製作所、富士通等の国内電機メーカーが上位に入っています。これらの企業の特許は90年代の出願が多く、またほとんどが失効しているものの、現在でも装置メーカーである3社にとっては障害となっていることが分かります。続いて追随企業（被引用数ランキング）を見ると、日本の2社は引用数ランキングと同様にそれぞれがAPPLIED MATERIALSを含めた3社の競合状態となっていますが、APPLIED MATERIALSの出願特許が最も大きな障害となっている企業は東京エレクトロンです。APPLIED MATERIALSの特許が引用されて拒絶査定、拒絶理由通知を受けている東京エレクトロンの特許はスパッタ装置関連だけでなく、同じくプラズマ技術を用いるドライエッチングやCVD関連特許が多いという点で日本の2社とは異なる特徴があります。
スパッタリング装置を用いる企業の製造拠点は日本のみならず各国に存在しており、従ってそれらの拠点に製品を納入する装置メーカーも自らの権利保護のため様々な国に出願しています。しかしながら各社における主要製品及びその顧客、さらには外国市場に関する戦略もそれぞれ異なることから、その結果出願する国もそれぞれ異なるものと考えられます。そこで総合力上位3社について、パテントファミリー情報を用いて外国への出願状況を調査しました。APPLIED MATERIALSの米国への出願が多いことは容易に想像がつきますが、それ以外の国への出願も多く、特に欧州とシンガポールへの出願が日本の2社と比較して目立ちます。日本の2社についてはアルバックが米国よりも韓国、台湾、中国といったアジア圏への出願が多いのに対し、キヤノンアネルバは米国への出願が最も多く、韓国、中国と比べ台湾が少ないということが分かります。つまりアルバックはアジア重視、キヤノンアネルバは米国を重視し、アジアでは韓国、中国を重視している、ということが言えます。
本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「スパッタリング装置関連技術」にてご覧いただけます。
■価格：100,000円～（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2015/05/sput.html
＜＜特許・技術調査レポートについて＞＞
http://www.patentresult.co.jp/report/index.html
＜＜特許分析セミナー情報＞＞
http://www.patentresult.co.jp/seminar/
＜＜ 本件に関するお問い合せ先 ＞＞
株式会社パテント・リザルト 営業部
Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
ホームページURL：http://www.patentresult.co.jp/
＜＜ 会社概要 ＞＞
社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
スパッタリングは薄膜製造技術の一つとして半導体やディスプレイ等の製造プロセスに用いられています。本調査ではスパッタリング装置関連技術の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。
その結果、「総合力ランキング」では、1位キヤノンアネルバ、2位 APPLIED MATERIALS、3位アルバックとなりました。
総合力1位のキャノンアネルバは磁性膜成膜用のマグネトロンスパッタ装置の構成に関して注目度の高い特許が多くなっています。2位のAPPLIED MATERIALSはプラズマ発生用コイルや電極シュラウドといった個々の部品に関する特許、3位のアルバックは大面積用途のスパッタリング装置に関して注目度の高い特許が多くなっています。半導体製造装置におけるスパッタリング装置の市場シェアはAPPLIED MATERIALSが圧倒的に高く、ディスプレイ用ではアルバックが、HDD等の磁性薄膜用ではキヤノンアネルバが高いシェアを有しています。こうした各社の特徴、強みはパテントスコアによる特許の評価においても表れています。
総合力上位3社は上述したようにそれぞれの特徴がありますが、直近で競合する企業がどこなのかを調査する目的で特許の引用情報を集計しました。これら3社が審査を受ける際にどのような企業の特許が先行技術として引用されて権利化の障害となったのか（3社から見た先行企業）、3社の特許が先行技術として引用されてどのような企業の権利化に障害となったのか（3社から見た追随企業）を2010年以降の審査官引用に絞り集計しました。各社の先行企業（引用数ランキング）を見ると、3社それぞれが互いに競合している状態となっていますが、その他は共通してかつて半導体製造を直接手掛けていたパナソニック、日立製作所、富士通等の国内電機メーカーが上位に入っています。これらの企業の特許は90年代の出願が多く、またほとんどが失効しているものの、現在でも装置メーカーである3社にとっては障害となっていることが分かります。続いて追随企業（被引用数ランキング）を見ると、日本の2社は引用数ランキングと同様にそれぞれがAPPLIED MATERIALSを含めた3社の競合状態となっていますが、APPLIED MATERIALSの出願特許が最も大きな障害となっている企業は東京エレクトロンです。APPLIED MATERIALSの特許が引用されて拒絶査定、拒絶理由通知を受けている東京エレクトロンの特許はスパッタ装置関連だけでなく、同じくプラズマ技術を用いるドライエッチングやCVD関連特許が多いという点で日本の2社とは異なる特徴があります。
スパッタリング装置を用いる企業の製造拠点は日本のみならず各国に存在しており、従ってそれらの拠点に製品を納入する装置メーカーも自らの権利保護のため様々な国に出願しています。しかしながら各社における主要製品及びその顧客、さらには外国市場に関する戦略もそれぞれ異なることから、その結果出願する国もそれぞれ異なるものと考えられます。そこで総合力上位3社について、パテントファミリー情報を用いて外国への出願状況を調査しました。APPLIED MATERIALSの米国への出願が多いことは容易に想像がつきますが、それ以外の国への出願も多く、特に欧州とシンガポールへの出願が日本の2社と比較して目立ちます。日本の2社についてはアルバックが米国よりも韓国、台湾、中国といったアジア圏への出願が多いのに対し、キヤノンアネルバは米国への出願が最も多く、韓国、中国と比べ台湾が少ないということが分かります。つまりアルバックはアジア重視、キヤノンアネルバは米国を重視し、アジアでは韓国、中国を重視している、ということが言えます。
本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「スパッタリング装置関連技術」にてご覧いただけます。
■価格：100,000円～（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2015/05/sput.html
＜＜特許・技術調査レポートについて＞＞
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＜＜特許分析セミナー情報＞＞
http://www.patentresult.co.jp/seminar/
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株式会社パテント・リザルト 営業部
Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
ホームページURL：http://www.patentresult.co.jp/
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社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
