株式会社パテント・リザルトは2014年5月30日、大学・研究機関を対象に、2013年の特許審査過程において他社特許への拒絶理由として引用された件数を機関別に集計した「大学・研究機関 他社牽制力ランキング2013」をまとめ、ランキングデータの販売を開始しました。
この集計により、直近の技術開発において各社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な機関が明らかになります。
集計の結果、2013年に最も引用された機関は、産業技術総合研究所の1,695件、次いで科学技術振興機構の1,067件、物質・材料研究機構の321件となりました。
1位 産業技術総合研究所の最も引用された特許は、日鉄住金環境との共同出願による「核酸の測定方法（特願2000-120097）」で、後発の特許7件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には、東洋紡の6件、ROYAL PHILIPS（蘭）の1件となっています。
2013年に、産業技術総合研究所の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は東芝、次いで、パナソニック、コニカミノルタとなっています。
分野別には、太陽電池や触媒、材料分析などに関する技術が多く引用されています。
2位 科学技術振興機構の最も引用された特許は、東京工業大学の細野秀雄教授らの発明による「薄膜トランジスタ及びその製造方法（特願2006-510907）」で、後発の特許22件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には半導体エネルギー研究所の13件、出光興産の3件、凸版印刷の2件などとなっています。
2013年に、科学技術振興機構の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は半導体エネルギー研究所、次いで、住友電気工業、NEC、富士フイルムとなっています。
分野別には、材料分析や遺伝子関連、電子材料などに関する技術が多く引用されています。
3位 物質・材料研究機構の最も引用された特許は、「全固体リチウム電池（特願2007-524042）」で、トヨタ自動車や住友電気工業、SAMSUNG SDIなど11件の後発特許の審査過程で拒絶理由として引用されています。
2013年に、物質・材料研究機構の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は住友電気工業、次いで、シャープ、ROYAL PHILIPSとなっています。
分野別には、発光性組成物、医療用材料、炭素繊維などに関する技術が多く引用されています。
上位3機関は研究機関ですが、4位は米国のUNIVERSITY OF CALIFORNIA（カリフォルニア大学）となっており、日本の大学の被引用件数トップである東京工業大学を上回る結果となりました。最も引用された特許は、「半極性（Ｇａ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｂ）Ｎ薄膜、ヘテロ構造およびデバイスの成長と作製のための方法及び装置（特願2008-514810）」で、後発の特許12件の審査過程で拒絶理由として引用されています。企業別には住友電気工業が11件、ソラアインコーポレーテッドが1件となっています。
詳細については、ランキングデータ「大学・研究機関 他社牽制力ランキング」にてご覧いただけます。
■価格：50,000円（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2014/05/fcituniv.html
＜＜特許分析セミナー情報＞＞
http://www.patentresult.co.jp/seminar/
ウェブセミナーはじめました。
http://www.patentresult.co.jp/patent_web_seminar/
＜＜ 本件に関するお問い合せ先 ＞＞
株式会社パテント・リザルト 営業部
Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
ホームページURL：http://www.patentresult.co.jp/
＜＜ 会社概要 ＞＞
社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
この集計により、直近の技術開発において各社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な機関が明らかになります。
集計の結果、2013年に最も引用された機関は、産業技術総合研究所の1,695件、次いで科学技術振興機構の1,067件、物質・材料研究機構の321件となりました。
1位 産業技術総合研究所の最も引用された特許は、日鉄住金環境との共同出願による「核酸の測定方法（特願2000-120097）」で、後発の特許7件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には、東洋紡の6件、ROYAL PHILIPS（蘭）の1件となっています。
2013年に、産業技術総合研究所の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は東芝、次いで、パナソニック、コニカミノルタとなっています。
分野別には、太陽電池や触媒、材料分析などに関する技術が多く引用されています。
2位 科学技術振興機構の最も引用された特許は、東京工業大学の細野秀雄教授らの発明による「薄膜トランジスタ及びその製造方法（特願2006-510907）」で、後発の特許22件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には半導体エネルギー研究所の13件、出光興産の3件、凸版印刷の2件などとなっています。
2013年に、科学技術振興機構の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は半導体エネルギー研究所、次いで、住友電気工業、NEC、富士フイルムとなっています。
分野別には、材料分析や遺伝子関連、電子材料などに関する技術が多く引用されています。
3位 物質・材料研究機構の最も引用された特許は、「全固体リチウム電池（特願2007-524042）」で、トヨタ自動車や住友電気工業、SAMSUNG SDIなど11件の後発特許の審査過程で拒絶理由として引用されています。
2013年に、物質・材料研究機構の特許によって影響を受けた件数が最も多い企業は住友電気工業、次いで、シャープ、ROYAL PHILIPSとなっています。
分野別には、発光性組成物、医療用材料、炭素繊維などに関する技術が多く引用されています。
上位3機関は研究機関ですが、4位は米国のUNIVERSITY OF CALIFORNIA（カリフォルニア大学）となっており、日本の大学の被引用件数トップである東京工業大学を上回る結果となりました。最も引用された特許は、「半極性（Ｇａ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｂ）Ｎ薄膜、ヘテロ構造およびデバイスの成長と作製のための方法及び装置（特願2008-514810）」で、後発の特許12件の審査過程で拒絶理由として引用されています。企業別には住友電気工業が11件、ソラアインコーポレーテッドが1件となっています。
詳細については、ランキングデータ「大学・研究機関 他社牽制力ランキング」にてご覧いただけます。
■価格：50,000円（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2014/05/fcituniv.html
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ウェブセミナーはじめました。
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株式会社パテント・リザルト 営業部
Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
ホームページURL：http://www.patentresult.co.jp/
＜＜ 会社概要 ＞＞
社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
