株式会社パテント・リザルトは2014年5月23日、独自に分類した精密機器業界の企業を対象に、2013年の特許審査過程において他社特許への拒絶理由として引用された件数を企業別に集計した「精密機器業界 他社牽制力ランキング2013」をまとめ、ランキングデータの販売を開始しました。
この集計により、直近の技術開発において各社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な企業が明らかになります。
集計の結果、2013年に最も引用された企業は、キヤノンの13,989件、次いでセイコーエプソンの8,045件、リコーの7,295件となりました。
1位キヤノンの最も引用された特許は、東京工業大学との共同保有となっている「電界効果型トランジスタ（特願2005-325366）」で、後発の特許23件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には富士フイルムの7件をはじめ、半導体エネルギー研究所の4件、SAMSUNG ELECTRONICS（韓）の3件、出光興産、APPLIED MATERIALS（米）の各2件などとなっています。
2013年に、キヤノンの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はリコーの1,324件、次いでコニカミノルタ、ニコンとなっています。
2位セイコーエプソンの最も引用された特許は、「電気光学装置用素子基板の製造方法（特願2000-365714）」で、後発の特許26件の審査過程で拒絶理由として引用されており、この26件はいずれも半導体エネルギー研究所による出願となっています。
2013年に引用されたセイコーエプソンの8,045件の特許を分野別にみると、プリンタヘッド、液晶、有機ELなどが多く、プリンタヘッドでは富士フイルムやリコー、キヤノンなどが、液晶では半導体エネルギー研究所や住友化学、凸版印刷などが、有機ELでは半導体エネルギー研究所やジャパンディスプレイ、SAMSUNG DISPLAY（韓）などが影響を受けています。
3位リコーの最も引用された特許は、「画像形成装置（特願2003-061185）」で、後発の特許10件の審査過程で拒絶理由として引用されており、この10件はいずれもセイコーエプソンによる出願となっています。
2013年に、リコーの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はキヤノン、次いで京セラドキュメントソリューションズ、富士ゼロックスとなっています。
詳細については、ランキングデータ「精密機器業界 他社牽制力ランキング」にてご覧いただけます。
■価格：50,000円（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
http://www.patentresult.co.jp/news/2014/05/fcitprec.html
＜＜特許分析セミナー情報＞＞
http://www.patentresult.co.jp/seminar/
ウェブセミナーはじめました。
http://www.patentresult.co.jp/patent_web_seminar/
＜＜ 本件に関するお問い合せ先 ＞＞
株式会社パテント・リザルト 営業部
Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
ホームページURL：http://www.patentresult.co.jp/
＜＜ 会社概要 ＞＞
社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
この集計により、直近の技術開発において各社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な企業が明らかになります。
集計の結果、2013年に最も引用された企業は、キヤノンの13,989件、次いでセイコーエプソンの8,045件、リコーの7,295件となりました。
1位キヤノンの最も引用された特許は、東京工業大学との共同保有となっている「電界効果型トランジスタ（特願2005-325366）」で、後発の特許23件の審査過程で拒絶理由として引用されており、企業別には富士フイルムの7件をはじめ、半導体エネルギー研究所の4件、SAMSUNG ELECTRONICS（韓）の3件、出光興産、APPLIED MATERIALS（米）の各2件などとなっています。
2013年に、キヤノンの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はリコーの1,324件、次いでコニカミノルタ、ニコンとなっています。
2位セイコーエプソンの最も引用された特許は、「電気光学装置用素子基板の製造方法（特願2000-365714）」で、後発の特許26件の審査過程で拒絶理由として引用されており、この26件はいずれも半導体エネルギー研究所による出願となっています。
2013年に引用されたセイコーエプソンの8,045件の特許を分野別にみると、プリンタヘッド、液晶、有機ELなどが多く、プリンタヘッドでは富士フイルムやリコー、キヤノンなどが、液晶では半導体エネルギー研究所や住友化学、凸版印刷などが、有機ELでは半導体エネルギー研究所やジャパンディスプレイ、SAMSUNG DISPLAY（韓）などが影響を受けています。
3位リコーの最も引用された特許は、「画像形成装置（特願2003-061185）」で、後発の特許10件の審査過程で拒絶理由として引用されており、この10件はいずれもセイコーエプソンによる出願となっています。
2013年に、リコーの特許によって影響を受けた件数が最も多い企業はキヤノン、次いで京セラドキュメントソリューションズ、富士ゼロックスとなっています。
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Tel：03-5835-5644、Fax：03-5835-5699
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社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒111-0053 東京都台東区浅草橋5-3-2 秋葉原スクエアビル4 階
事業内容：特許分析ソフトウェア、技術力評価指標の開発・販売、情報提供など
