ナノインプリント、特許総合力トップ3は東芝、米・Molecular Imprints、キヤノン

株式会社パテント・リザルトはこのほど、日本に出願されたナノインプリント関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめました。

ナノインプリントとは、モールド（スタンパー、テンプレート）を樹脂に押しつけ、モールド上に形成されたパターンを樹脂に転写する技術で、1995年に米・プリンストン大学のChou教授により発明されました。微細加工に適しており、半導体リソグラフィ、光デバイス、記録メディア、MEMS技術等への応用が検討されており、既存の微細加工技術と比べ、コスト低減が期待できるという特徴があります。本調査ではナノインプリント技術関連の特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。

その結果、「総合力ランキング（※）」では、1位 東芝、2位 米・Molecular Imprints、3位 キヤノンとなりました。


ナノインプリント装置メーカーで他社をリードする米・Molecular Imprintsが日本においても非常に総合力が高くなっています。さらには半導体露光装置メーカー3社中、キヤノンとASMLの2社が上位に入っていることも特徴的です。
詳細　⇒　http://www.patentresult.co.jp/news/2012/12/nil.html


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