株式会社データリソースは、TECHCET（テクセット）社のレポート「リソグラフィ材料：フォトレジスト、エクステンション、アンシラリ」を7月29日に販売開始しました。7月18日付の同社のプレスリリースによると、半導体関連フォトレジスト市場の2022年の売上高は7.5%増の約23億米ドルに達する、と予測しています。
プレスリリース詳細
2022 半導体フォトレジスト - 高度なノードランプ
2026年まで力強い成長が続く
2022年7月18日プレスリリース
カリフォルニア州サンディエゴ、 電子材料関連のアドバイザリー会社であるテクセット（TECHCET）の最新レポート 「リソグラフィ材料：フォトレジスト、エクステンション、アンシラリ」によると、半導体関連フォトレジスト市場の2022年の売上高は7.5%増の約23億米ドルに達する、との最新見通しを発表しました。また、レジスト全体の2021年から2026年のCAGRは5.9％と予測され、最も成長が速い製品はEUVとKrFタイプのレジスト材料であると報告しています。
「リソグラフィ材料市場は健全に成長しており、デバイス技術の進歩とレイヤーカウントの増加により、今後も上昇基調で推移すると予想される」と、テクセットのマーケティングリサーチ担当シニアディレクター、Dan Tracy博士は述べている。
特にEUVフォトレジストは、しっかりと「到着」しており、現在、複数のチップメーカーによる大量のチップ製造に正式に使用されている。また、EUVフォトレジストは新しいロジックノードの導入が進むことで先進的なDRAMがEUVで生産されるようになり、特にASMLスキャナーの生産が開始されれば、急速に成長すると思われる。
"旧技術"（I-line、G-line、KrF）用フォトレジストは、短期的なチップ供給の制約により急増すると予想される。KrFレジストは3DNANDデバイスの生産量と層数の増加に伴い、引き続き成長するだろう。ArFとArFiは、水系現像液（0.263N水酸化テトラメチルアンモニウム-TMAH）を使用する類似のポリマー/溶剤プラットフォームであり、マルチパターニングアプリケーションが需要を牽引している。
また、韓国、台湾、中国では、フォトレジスト生産のオンショアリングが進んでおり、国内での生産が拡大している。フォトレジスト市場に影響を与える当面の課題は、他の材料と同様、インフレ、サプライチェーンの混乱、地政学的なイベントである。これらはすべて、今年度の価格上昇と製品供給力に寄与しており、2023年までその傾向が続くと予想される。
また、韓国や中国などの新規サプライヤーの台頭が、フォトレジスト市場のダイナミックな調整につながる可能性があることも重要である。これらの新規サプライヤーは、それぞれの国の政府やチップメーカーの支援を受けている。
■本レポートについて
リソグラフィ材料：フォトレジスト、エクステンション、アンシラリ
LITHOGRAPHY MATERIALS
https://www.dri.co.jp/auto/report/techcet/techclithography.html
■調査会社について
TECHCET（テクセット）社
https://www.dri.co.jp/auto/report/techcet/index.html
株式会社データリソースは、TECHCET（テクセット）社の
日本における正規販売代理店として調査レポートの販売を行っています。
■プレスリリースに関するお問合せ
TECHCET（テクセット）社 日本正規販売代理店
株式会社データリソース
〒107-0052
東京都港区赤坂1-14-5 アークヒルズエグゼクティブタワーN313
Tel：03-3582-2531
Eメール：office@dri.co.jp
HP: https://www.dri.co.jp
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2022 半導体フォトレジスト - 高度なノードランプ
2026年まで力強い成長が続く
2022年7月18日プレスリリース
カリフォルニア州サンディエゴ、 電子材料関連のアドバイザリー会社であるテクセット（TECHCET）の最新レポート 「リソグラフィ材料：フォトレジスト、エクステンション、アンシラリ」によると、半導体関連フォトレジスト市場の2022年の売上高は7.5%増の約23億米ドルに達する、との最新見通しを発表しました。また、レジスト全体の2021年から2026年のCAGRは5.9％と予測され、最も成長が速い製品はEUVとKrFタイプのレジスト材料であると報告しています。
「リソグラフィ材料市場は健全に成長しており、デバイス技術の進歩とレイヤーカウントの増加により、今後も上昇基調で推移すると予想される」と、テクセットのマーケティングリサーチ担当シニアディレクター、Dan Tracy博士は述べている。
特にEUVフォトレジストは、しっかりと「到着」しており、現在、複数のチップメーカーによる大量のチップ製造に正式に使用されている。また、EUVフォトレジストは新しいロジックノードの導入が進むことで先進的なDRAMがEUVで生産されるようになり、特にASMLスキャナーの生産が開始されれば、急速に成長すると思われる。
"旧技術"（I-line、G-line、KrF）用フォトレジストは、短期的なチップ供給の制約により急増すると予想される。KrFレジストは3DNANDデバイスの生産量と層数の増加に伴い、引き続き成長するだろう。ArFとArFiは、水系現像液（0.263N水酸化テトラメチルアンモニウム-TMAH）を使用する類似のポリマー/溶剤プラットフォームであり、マルチパターニングアプリケーションが需要を牽引している。
また、韓国、台湾、中国では、フォトレジスト生産のオンショアリングが進んでおり、国内での生産が拡大している。フォトレジスト市場に影響を与える当面の課題は、他の材料と同様、インフレ、サプライチェーンの混乱、地政学的なイベントである。これらはすべて、今年度の価格上昇と製品供給力に寄与しており、2023年までその傾向が続くと予想される。
また、韓国や中国などの新規サプライヤーの台頭が、フォトレジスト市場のダイナミックな調整につながる可能性があることも重要である。これらの新規サプライヤーは、それぞれの国の政府やチップメーカーの支援を受けている。
■本レポートについて
リソグラフィ材料：フォトレジスト、エクステンション、アンシラリ
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